杂质名称 | 杂质类别 | 杂质来源 | 杂质去向及监控情况 | |
杂质A | 有机杂质 (去氟化合物) | 副产物 | 1、该杂质在工艺中最后转化为去氟化合物; 2、该杂质在异丙醇中有较好的溶解性,异丙醇精制中可去除,此杂质在丙酮精制中可去除; 3、CPA中间体中去氟结构杂质按限度0.1%日常监控; 4、该杂质在下一工艺会发生反应,其产物按0.3%限度日常监控,粗品中对相应结构的去氟杂质按限度0.3%日常监控和成品中对此杂质按0.3%日常监控 | |
甲基磺酸酯 | 潜在基因毒性杂质 | 副产物 | 1、TLC点板判断反应进行情况; 2、该杂质易水解,在水洗和氢氧化钠洗涤可去除; 3、中间体1中按“甲基磺酸酯≤30ppm”日常监控。 | |
甲基磺酸 | 有机杂质 | 副产物 | 该杂质溶于水,水洗可去除。 | |
杂质B | 有机杂质 | 起始原料 | 杂质B易和氢氧化钠成钠盐,钠盐易溶于水,水洗可去除。 | |
杂质C | 有机杂质 | 水解降解、副产物 | 1、控制中间体2水解物≤0.5%; 2、控制中间体3水解物≤0.2%; 3、成品中可控制为≤0.30% | |
杂质D | 有机杂质(环己基杂质) | 副产物 | 1、中间体2控制环己基氢化物≤1.0%; 2、中间体3控制环己基氢化物≤0.5%; 3、成品中可控制为≤0.30% | |
异丙醇 | 残留溶剂 | 精制溶剂 | 1、烘干去除; 2、中间体1中按干失0.5%日常监测,成品按照2000ppm控制 | |
三乙胺 | 残留溶剂 | 反应碱化剂 | 以三乙胺盐酸盐和三乙胺形式溶于水去除 |
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